半導体露光装置、半導体チップ（ICやLSIなど）を製造する際に使用される、極めて重要な装置です。英語では semiconductor lithography system や photolithography equipment と呼ばれます。
🔷 半導体露光装置とは？
半導体製造では、シリコンウェハー上に回路パターンを転写する工程があります。これを「露光（ろこう）」と呼び、その工程を行う装置が「露光装置」です。フォトマスクに描かれた微細な回路パターンを、光を使ってレジスト（感光材）を塗布したウェハー上に写し取ります。
🔷 露光装置の主なタイプ
| 種類 | 説明 |
|---|---|
| ステッパー（Stepper） | ウェハーをステップごとに動かしながら順に露光。 |
| スキャナー（Scanner） | マスクとウェハーを同時にスキャンして露光。より高精度。 |
| EUV露光装置 | 極端紫外線（13.5nm波長）を使用。最先端の微細加工技術。 |
🔷 主要な露光装置メーカー
| 企業名 | 国 | 特徴 |
|---|---|---|
| ASML | オランダ | 世界唯一のEUV露光装置メーカー。ほぼ独占状態。 |
| Nikon（ニコン） | 日本 | DUV（深紫外線）露光装置で実績あり。 |
| Canon（キヤノン） | 日本 | 中古・成熟プロセス向けに強み。 |
🔷 露光装置が重要な理由
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回路の微細化が進むほど、露光装置の精度・性能が重要になる。
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高性能スマートフォンやAIチップなど、先端半導体はEUV露光が不可欠。
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製造ラインの中でも最も高価な装置の一つ（1台数百億円）。
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